STUDIUL CINETICII OXIDĂRII UNOR SULFONAMIDE ÎN SISTEMUL SN - H2O2 - UV

Abstract

Sulfamidele (SN) reprezintă o clasă de antibiotice sintetice bacteriostatice cu un spectru larg, în a căror structură se regăsește grupa funcțională sulfonamidă.Mai mulți derivați ai SN sunt utilizați ca agenți antiprozoși și erbicizi, ca anti fungiși ulilizarea lor frecventă duce pâna la urmă la un impact negativ asupra mediului ambiant . În prezenta lucrare au fost determinat elegitățile cinetice ale degradării reprezentanților solfonamidelor –aftal ilsulfti azolului (FL)și a acetazola mid ei(AC)în sistemele SN-hși SN-H2O2-h. În calitate desursă de iradiere cu raze UV s-a folosit lampa cu mercurd euteriu de presiune înaltă «ДРТ–1000». S-a stabilitcă gradul de oxidare al sulfonamidelor constituie 60–78% la variaţia concentraţiei de la 1∙10-4mol/L până la 3,75∙10-4mol/L.Pentru o oxidare mai completă în sistem a fost adăugat H2O2 în calitate de oxidant pur din punct de vedere ecologic în concentrații cuprinse în tre 5∙10-4 și 5∙10-3mol/L.Cu mărirea concentrației oxidantului crește și gradul de degradare a substratelor până la 69-88 %. Datele experimentale au permis determinarea vitezei de reacție ca funcție de concentrațiile inițiale a lesubstanțelor utilizate. Au fost determinate particulele principale intermediare generate în sistem și a fost propus mecanismul procesului de oxidare.

Sulfamides (SN) are a class of broad - spectrum synthetic bacteriostatic antibiotics, whose structure includes the sulphonamide f unctional group. Several SN derivatives are used as antipro zoal agents and herbicides, as antifungals and their frequent use ultimately leads to a negative impact on the environment. The paper deals with the kinetic regularities and degradation of phthalazole (FL) and acetazolamide (AC) as examples of sulphonamide s in the SN - h  and SN - H 2 O 2 - h  systems. The high - pressure mercury - deuterium lamp “ДРТ – 1000” was used as a source of UV radiation. It was determined that the degree of oxidation of the sulphonamides at the variation of the concentrations from 1 ∙ 10 - 4 mol/L to 3,75 ∙ 10 - 4 mol/L is between 60 - 78%. For a more complete oxidation H 2 O 2 was added in the system as an oxidant with a concentration range 5  10 - 4 - 5  10 - 3 mol/L. As the oxidant concentration increased, the degradation degree of substrate was between 69 - 88%. The experimental data allowed us to determine the reaction rate as a function of the initial concentrations of the used substances. The principal active particles generated in this system are detected and the mechanism scheme of the oxidation processes is proposed.