2. Articole
Permanent URI for this collectionhttps://msuir.usm.md/handle/123456789/47
Browse
3 results
Search Results
Item GROWTH OF P-GAN ON SILICON SUBSTRATES WITH ZNO BUFFER LAYERS(Springer Nature, 2020) Raevschi, Simion; Gorceac, Leonid; Botnariuc, Vasile; Branişte, TudorGaN layers on Silicon with ZnO intermediate layer were synthesized by using the HVPE (Hydride Vapor Phase Epitaxy) method. ZnO layers were deposited from solutions of zinc compounds in ethanol or water in two steps. At the first step a ZnO nucleation layer was deposited from a solution of zinc acetate in ethanol, at the second step a ZnO precipitate was deposited from a solution of zinc nitrate and KOH in water by boiling. On the obtained structures the GaN nucleation layers were deposited at 500 ℃ for 15 min, then GaN layers were grown at 850–970 ℃ for 30 ± 5 min. Structures were studied by using the optical and SEM microscope and XRD method. The type of conductivity of the layers was determined by using the method of thermal electromotive force measurement (TEFM). The possibility of the electrical conductivity (EC) type changing from n- to p-type for the GaN layers deposited on silicon substrates with the use of intermediate ZnO layer deposited from solutions is demonstrated for the first time.Item CERCETĂRI XRD ȘI XPS ALE STRATURILOR DE AlN, AlGaN, GaN DEPUSE PE SILICIU PRIN METODA HVPE(CEP USM, 2018) Raevschi, Simion; Spalatu, Nicolae; Botnariuc, Vasile; Gorceac, Leonid; Potlog, Tamara; Dobromir, MariusPrin metoda reacțiilor chimice de transport HVPE (Hydride Vapor Phase Epitaxy) in sistemul (H2-NH3-HCl-Al-GaSi) au fost sintetizate straturi subțiri de AlN, AlGaN, GaN pe substraturi de siliciu, Si(111). Morfologia suprafeței, precum și a secțiunilor transversale ale structurilor a fost cercetată prin metoda SEM (Scanning Electron Microscopy) de rezoluție înaltă. Compoziția în secțiune transversală a structurilor a fost studiată prin metoda XRD (X-Ray Diffraction method), iar de suprafață – prin metoda XPS (X-Ray Photoelectronic Spectroscopy). Afară de aluminiu, galiu și azot în straturi au fost depistate oxigen și carbon. S-a stabilit că concentrația oxigenului pe suprafața straturilor de GaN, depuse la temperaturi relativ mai joase, este mai mică. Se presupune că concentrația ridicată a oxigenului în straturi are loc în urma descompunerii cuarțului, din care este confecționat reactorul, la temperaturi ridicate. S-a constatat că încorporarea galiului în straturile de AlGaN este diminuată de fluxul precursorilor aluminiului. Prin aceasta se demonstrează că viteza reacțiilor chimice ale precursorilor azotului cu ale aluminiului este semnificativ mai mare decât cu ale galiului, ultimele fiind înlăturate din zona de depunere de fluxul gazului de transport.Item INFLUIENŢA TRATĂRII TERMICE ÎN AZOT SAU ÎN VID ASUPRA PROPRIETĂŢILOR STRATURILOR DE GaN CRESCUTE PE Si(111) PRIN METODA HVPE(CEP USM, 2015) Botnariuc, Vasile; Cinic, Boris; Coval, Andrei; Gașin, Petru; Gorceac, Leonid; Raevschi, SimionA fost studiată influenţa tratării termice la temperaturi ridicate în azot sau în vid asupra proprietăţilor straturilor de GaN depuse pe siliciu prin metoda reacţiilor chimice de transport în sistemul (H2-NH3-HCl-Ga-Al), (HVPE). În spectrele de fotoluminescenţă(FL), la 300 K, ale straturilor netratate se evidenţiază două fâşii de recombinare radiantă, cu maximele la 370 şi 555 nm. La tratarea în azot intensitatea fâşiei 370 nm creşte, iar la tratarea în vid – descre şte. Intensitatea benzii galbene (555 nm), la tratare în ambele medii, scade neesenţial. Se demonstrează că parametrii electrici ai straturilor pot fi, de asemenea, modificaţi prin metoda tratării termice în azot sau în vid, precum şi prin durata de tratare.