Straturi nanostructurate de ZnO dopate cu Al pentru fotoelectrozi în structurile hibride pe baza ftalocianinei de cupru [Articol]

Abstract

În articol este prezentat un studiu al structurii şi proprietăţilor optice ale straturilor subţiri de ZnO dopate cu Al atât netratate termic, cât şi tratate termic în flux de hidrogen la 445 C, precum şi proprietăţile electrice ale structurilor pe baza acestora. Structura acestor straturi a fost făcută utilizând difracţia de radiaţii X, iar proprietăţilor lor opticeprin spectroscopia UV-VIS. S-a constatat că straturile ZnO:Al au structură policristalină de tip wutzite; dimensiunea cristalitelor depinde de regimul tehnologic. Cu creşterea concentraţiei de Al dimensiunea acestora se micşorează, iar tratarea termică în idrogen conduce la micsorarea valorii Eg indiferent de regimul tehnologic de fabricare a straturilor subţiri. Au fost realizate structuri ZnO/CuPc şi cercetate proprietăţile lor electrice utilizând caracteristicile curent-tensiune şi capacitate-tensiune. Dependenţ a capacităţii de tensiune justifică prezenţa regunii de sarcină spaţială

In this paper, a study of the structure and optical properties of ZnO thin films doped with Al, both untreated and treated in hydrogen at 445oC, as electrical properties of structures based on th em it is presents. Studies on the structure and optical properties were made using X-ray diffraction and UV-VIS spectroscopy. It was found that the ZnO: Al layers were polycrystalline and have a wurtzite structure, crystallite size depends on the technological regime, with increasing concentration of Al their size decreases and an nealing in hydrogen leads to decrease in Eg value indifferently of the manufacturing technology. ZnO/CuPc structures were fabri cated. Their electrical properties using current-voltage and capacitance-voltage characteristics were investigated. The cap acitance-voltage characteristics justify the presence of a space charge region.