Формирование рельефа поверхности многослойной нанопериодической структуры Ge5As37S58/Se, индуцированное электронным облучением

Abstract

В многослойной нанопериодической структуре (МНС) Ge5As37S58/Se осуществлена электронно-лучевая запись растровых рисунков. Поверхность МНС Ge5As37S58/Se, образованная группой пикселей, изучалась в атомном силовом микроскопе. Установлен вклад массопереноса в формирование объемных пикселей, образующих рельеф поверхности данной МНС. Обнаружено, что быстрое перемещения пучка электронов между заданными точечными областями облучения приводит к образованию на поверхности МНС линий в виде гребней.

Electron beam recording of raster images was carried out on the Ge5As37S58/Se nanolayered structure (NLS). The topography of the patterned NLS surface was studied using an atomic force microscope. According to the obtained results, the contribution of the lateral mass transport to the surface relief formation on the NLS was established. The formation of ridge-like lines on the NLS surface under the fast jumping of an electron beam between its targeted locations was revealed.