Structura și compoziția elementară a stratului de Ga2O3 pe substrat de Ga2O3 [Articol]

Abstract

Nanoformațiunile din cristalite monofazice cu rețea cristalină monoclinică de oxid Ga2O3 au fost cercetate folosind imaginile suprafeței SEM, diagramele XRD, spectrele de difuzie combinată Raman și spectrele EDS. Oxidul Ga2O3 a fost sintezat prin călire în atmosfera normală a monocristalelor Ga2S3. La temperaturi de călire de 1070 K și 1170 K se obține un strat omogen compus din nanocristalite de Ga2O3 cu rețea cristalină monoclinică. Stratul de oxid de la suprafața eșantionului conține un surplus de oxigen și de sulf. Concentrația sulfului în unitate de arie de Ga2O3 se micșorează de la 0,13% at. până la 0,05% at. odată cu majorarea temperaturii de călire de la 970 K la 1170 KNanostructural formations of single-phase crystallites with Ga2O3 monoclinic crystal lattice were investigated using SEM surface images, XRD patterns, Raman and EDS spectra. Ga2O3 oxide was synthesized by quenching the Ga2S3 single crystals in the normal atmosphere. At quenching temperatures of 1070 and 1170 K, a homogeneous layer of Ga2O3 nanocrystallites with monoclinic crystal lattice is formed. The oxide layer on the sample surface contains an excess of oxygen and sulfur. As the quenching temperature increases from 970 to 1170 K, the sulfur concentration per Ga2O3 surface unit decreases from 0.13 down to 0.05 at.%.