Browsing by Author "Замулаева, Е.И."

Now showing 1 - 3 of 3

Особенности формирования на хромовой подложке электроискровых покрытий при использовании керамических электродов ZrSi2-MoSi2-ZrB2 и HfSi2-MoSi2-HfB2
(2024) Кудряшов, А.Е.; Замулаева, Е.И.; Кирюханцев-Корнеев, Ф.В.; Муканов, С.К.; Агеев, М.И.; Петржик, М.И.; Левашов, Е.А.
Исследованы особенности массопереноса, структуры и свойств электроискровых покрытий на подложках из низколегированного хромового сплава марки ВХ1-17А при использовании керамических электродов ZrSi2-MoSi2-ZrB2 и HfSi2-MoSi2-HfB2, изготовленных методом самораспространяющегося высокотемпературного синтеза. Покрытия были изучены методами рентгеноструктурного фазового анализа, растровой электронной микроскопии, микрорентгеноспектрального анализа; также проведены трибологические испытания по схеме «стержень-диск» и наноиндентирование. Кинетику массопереноса и жаростойкость покрытий определяли гравиметрическим методом. Выявлено, что максимальный привес на катоде наблюдается после первой минуты обработки, а в дальнейшем отмечается убыль массы катода. На поверхности хромового сплава ВХ1-17А были сформированы покрытия со 100% сплошностью и толщиной 10–20 мкм. Цирконий-содержащие покрытия характеризуются твердостью 18,2 ГПа и модулем упругости 274 ГПа, а покрытия, полученные с использованием электрода HfSi2-MoSi2-HfB2. твердостью 16,9 ГПа и модулем упругости 332 ГПа. Применение СВС-электродов позволило в 4 раза увеличить твердость поверхностного слоя хромового сплава, в 1,4 раза – износотойкость и в 1,6 раз –жаростойкость при t 1000 °С в течение 30 часов испытаний.
Получение защитных гетерофазных покрытий методами импульсной электроискровой и ионно-плазменной обработки
(2024) Замулаева, Е.И.; Кудряшов, А.Е.; Кирюханцев–Корнеев, Ф.В.; Башкиров, Е.А.; Муканов, С.К.; Погожев, Ю.С.; Левашов, Е.А.
Для повышения ресурса работы изделий, изготовленных из тугоплавких металлов, наиболее эффективным является применение защитных покрытий на основе жаростойких керамических материалов. С использованием электрода/мишени из гетерофазной керамики HfSi2–MoSi2–HfB2 по технологиям электроискрового осаждения (ЭИО), высокомощного импульсного магнет-ронного распыления (ВИМР), а также по комбинированной технологии ЭИО+ВИМР были изготовлены покрытия на подложке из молибдена марки МЧ-1. Электродные материалы и покрытия исследовались методами рентгеноструктурного фазового анализа, оптической эмиссионной спектроскопии тлеющего разряда, рентгеноспектрального микроанализа и раст-ровой электронной микроскопии. Комбинированная технология осаждения покрытий позволила создать на поверхности подложки твердый слой из жаростойкой керамики, не имеющий сквозных трещин, присущих ЭИО покрытиям.
Электроискровое осаждение твердых, износостойких и антифрикционных покрытий на подложки из сплава γ-TiAl в контролируемой газовой среде
(2024) Замулаева, Е.И.; Купцов, К.А.; Петржик, М.И.; Муканов, С.К.; Логинов, П.А.; Левашов, Е.А.
Изучено влияние среды осаждения Аr, C2H2, N2 на структуру, механические и трибологические свойства покрытий, полученных по технологии импульсной электроискровой обработки интерметаллидного сплава 4822 циркониевым электродом. В среде Ar образуется сплошное однородное покрытие на основе твердого раствора β-Zr с низким модулем упругости 83 ГПа, твердостью 6,2 ГПа и толщиной ~ 50 мкм. В среде C2H4 формируется покрытие с матрицей β-Zr, в которой распределены зерна карбидной фазы (Zr, Ti)C и фазы Лавеса h-Zr2Al, характеризующееся твердостью 10,6 ГПа и модулем Юнга 144 ГПа. В среде N2 образуется двухслойное покрытие на основе зерен (Ti, Zr)N с матрицей TiAl во внутреннем и TiAl3 в верхнем ее слое покрытия. Доля мелких зерен (Ti, Zr)N на глубине до 5–7 мкм от поверхности больше и плотность их распределения выше, чем в глубине покрытия. Покрытие обладает низкими значениями износа и коэффициента трения (0,12), твердостью 14,6 ГПа, модулем Юнга 240 ГПа. Толщина покрытий, осажденных в средах C2H4 и N2, составляет ~ 25–35 мкм.